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![]() 欢迎光临中卫半导体设备有限公司（以下简称“中卫”），一家服务于半导体行业等高科技领域的全球微加工高端设备公司。微器件被用来创造世界上最复杂、最尖端的技术：微纳器件为创新产品提供智能化和存储功能，从而改善人类生活，实现全球可持续发展。总部设在亚洲。作为世界制造业创新中心，亚洲有一个独特的优势：一个动态的供应链大大提高了公司的运营效率。通过员工的聪明才智、热情和齐心协力，公司已成为一家新型的高端微加工设备公司。在提高技术水平和生产效率方面取得了重大突破，赢得了业内顶尖芯片制造商等技术创新企业的信任。- 联系电话：
- 021-38953663
- 联系人：
- 未提供
- 手机号码：
- 未提供
- 电子邮件：
- hr1@amecnsh.com
- 邮政编码：
- 未提供
- 传真号码：
- 未提供
- 公司地址：
- 上海 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
- 法人名称：
- 中微半导体设备（上海）有限公司
- 主要经营产品：
- 研发 , 组装集成电路设备 , 泛半导体设备和其他微观加工设备及环保设备 , 包括配套设备和零配件 , 销售自产产品。提供技术咨询 , 技术服务。【不涉及国营贸易管理商品 , 涉及配额 , 许可证管理商品的 , 按照国家有关规定办理申请 , 依法须经批准的项目 , 经相关部门批准后方可开展经营活动】。
- 经营范围：
- 研发、组装集成电路设备、泛半导体设备和其他微观加工设备及环保设备，包括配套设备和零配件，销售自产产品。提供技术咨询、技术服务。【不涉及国营贸易管理商品，涉及配额、许可证管理商品的，按照国家有关规定办理申请；依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】。
- 营业执照号码：
- 913101157626272806
- 发证机关：
- 浦东新区市场监管局
- 经营状态：
- 存续（在营、开业、在册）
- 法人代表：
- 尹志尧（GERALD ZHEYAO YIN）
- 类型：
- 有限责任公司（中外合资）
- 成立时间：
- 2004年05月31日
- 职员人数：
- 100人
- 注册资本：
- 未公开
- 公司官网：
- http://www.amec-inc.com/?lang=zh_CN
- 所属分类：
- 半导体分立器件厂黄页
股东| 股东名字 | 出资比例 | 出资额 |
|---|
| ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC，ASIA（开曼群岛） | 41.0316% | 7605.000000 | | 巽鑫（上海）投资有限公司 | 19.0105% | 3523.503700 | | 置都（上海）投资中心（有限合伙） | 11.6839% | 2165.558100 | | 嘉兴悦橙投资合伙企业（有限合伙） | 9.9932% | 1852.182800 | | 上海创业投资有限公司 | 8.3713% | 1551.574000 | | 上海自贸试验区智芯投资中心（有限合伙） | 5.2410% | 971.385200 | | 嘉兴橙色海岸投资合伙企业（有限公司） | 2.8083% | 520.507300 | | 上海临鸿投资合伙企业（有限合伙） | 1.8602% | 344.783700 |
工商变更记录| 变更项目 | 变更后 | 变更前 | 时间 |
|---|
| 经营期限(营业期限)变 | 2004-05-31~2034-05-30 | 2004-05-31~2024-05-30 | 2016-12-27 | | 经营范围变更 | 研发、组装集成电路设备、泛半导体设备和其他微观加工设备及环保设备，包括配套设备和零配件，销售自产产品。提供技术咨询、技术服务。【不涉及国营贸易管理商品，涉及配额、许可证管理商品的，按照国家有关规定办理申请；依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】。 | 研发薄膜制造设备和等离子体刻蚀设备、大面积显示屏设备、真空镀膜设备及其他半导体关键设备，提供相关的技术咨询和售后服务，筹建生产以上设备，销售自产产品。 【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】 | 2016-12-27 | | 经理备案 | 无 | 无 | 2016-12-27 | | 监事备案 | 姜银鑫;刘书林;余峰 | 姜银鑫 | 2016-12-27 | | 董事备案 | 杨征帆;沈伟国;LIP-BU TAN;MINORU YOSHIDA;朱民;DU ZHIYOU（杜志游） | DU ZHIYOU（杜志游）;沈伟国 | 2016-12-27 | | 注册资本(金)变更 | 18534.4948万美元 | 7605.0000万美元 | 2016-12-27 | | 投资人(股权)变更 | ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC，ASIA（开曼群岛）;巽鑫（上海）投资有限公司;置都（上海）投资中心（有限合伙）;嘉兴悦橙投资合伙企业（有限合伙）;上海临鸿投资合伙企业（有限合伙）;嘉兴橙色海岸投资合伙企业（有限公司）;上海创业投资有限公司;上海自贸试验区智芯投资中心（有限合伙） | ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC，ASIA（开曼群岛） | 2016-12-27 | | 企业类型变更 | 有限责任公司(中外合资) | 有限责任公司(外国法人独资) | 2016-12-27 | | 章程备案 | 2016-08-25章程备案 | 2015-11-06章程备案 | 2016-12-27 | | 董事备案 | 沈伟国;DU ZHIYOU（杜志游） | 俞以明;DU ZHIYOU（杜志游） | 2015-12-25 | | 监事备案 | 姜银鑫 | 无 | 2015-12-25 | | 企业类型变更 | 有限责任公司(外国法人独资) | 有限责任公司(中外合作) | 2015-12-25 | | 章程备案 | 2015-11-06章程备案 | 无 | 2015-12-25 | | 投资人(股权)变更 | ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC，ASIA（开曼群岛） | 上海创业投资有限公司;ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC，ASIA（开曼群岛） | 2015-12-25 |
管理人员| 名字 | 职务 |
|---|
| 杨征帆 | 董事 | | 沈伟国 | 董事 | | 朱民 | 董事 | | LIP-BU TAN | 董事 | | DU ZHIYOU（杜志游） | 董事 | | 刘书林 | 监事 | | 尹志尧（GERALD ZHEYAO YIN） | 董事长兼总经理 | | 姜银鑫 | 监事 | | MINORU YOSHIDA | 董事 | | 余峰 | 监事 |
注册商标| 注册号 | 名称 | 分类 | 状态 | 时间 |
|---|
| 8847994 | PRIMOTSV3OOE | 机械设备 | 商标已注册 | 2010-11-16 | | 6621621 | AMEC;TT | 建筑修理 | 商标已注册 | 2008-03-27 | | 5917031 | PRIMOD RIE | 建筑修理 | 商标无效 | 2007-02-13 | | 5917048 | PRIMOHPCVD | 机械设备 | 商标已注册 | 2007-02-13 | | 5917030 | PRIMOHPCVD | 建筑修理 | 商标无效 | 2007-02-13 | | 5917049 | PRIMOD RIE | 机械设备 | 商标已注册 | 2007-02-13 | | 5163916 | AMEC | 机械设备 | 商标无效 | 2006-02-20 | | 5163917 | AMEC | 机械设备 | 变更商标申请人/注册人名义/地址完成 | 2006-02-20 | | 21481950 | PRISMO A 7 | 机械设备 | 商标注册申请等待受理中 | 2016-10-08 | | 17971744 | PRIMO NANOVA | 机械设备 | 商标注册申请受理通知书发文 | 2015-09-24 | | 17971724 | NANOVA | 机械设备 | 商标注册申请受理通知书发文 | 2015-09-24 | | 14641234 | PRIMOIDEA | 机械设备 | 商标注册申请完成 | 2014-06-30 | | 13526040 | PRIMODSA | 机械设备 | 商标注册申请完成 | 2013-11-12 | | 10441270 | PRISMO D-BLUE | 机械设备 | 商标已注册 | 2012-01-19 | | 10441271 | PRISMO | 机械设备 | 商标已注册 | 2012-01-19 | | 8848005 | PRIMO AD-RIE | 机械设备 | 商标已注册 | 2010-11-16 | | 8847994 | PRIMOTSV3OOE | 机械设备 | 商标已注册 | 2010-11-16 | | 8847993 | PRIMOTSV200E | 机械设备 | 商标已注册 | 2010-11-16 | | 6621621 | AMEC;TT | 建筑修理 | 商标已注册 | 2008-03-27 | | 5917031 | PRIMOD RIE | 建筑修理 | 商标无效 | 2007-02-13 | | 21481950 | PRISMO A 7 | 机械设备 | 商标注册申请等待受理中 | 2016-10-08 | | 17971744 | PRIMO NANOVA | 机械设备 | 商标注册申请受理通知书发文 | 2015-09-24 | | 17971724 | NANOVA | 机械设备 | 商标注册申请受理通知书发文 | 2015-09-24 | | 14641234 | PRIMOIDEA | 机械设备 | 商标注册申请完成 | 2014-06-30 | | 13526040 | PRIMODSA | 机械设备 | 商标注册申请完成 | 2013-11-12 | | 10441270 | PRISMO D-BLUE | 机械设备 | 商标已注册 | 2012-01-19 | | 10441271 | PRISMO | 机械设备 | 商标已注册 | 2012-01-19 | | 8848005 | PRIMO AD-RIE | 机械设备 | 商标已注册 | 2010-11-16 | | 8847994 | PRIMOTSV3OOE | 机械设备 | 商标已注册 | 2010-11-16 | | 8847993 | PRIMOTSV200E | 机械设备 | 商标已注册 | 2010-11-16 | | 6621621 | AMEC;TT | 建筑修理 | 商标已注册 | 2008-03-27 | | 5917031 | PRIMOD RIE | 建筑修理 | 商标无效 | 2007-02-13 | | 5917048 | PRIMOHPCVD | 机械设备 | 商标已注册 | 2007-02-13 | | 5917049 | PRIMOD RIE | 机械设备 | 商标已注册 | 2007-02-13 | | 5917030 | PRIMOHPCVD | 建筑修理 | 商标无效 | 2007-02-13 | | 5163916 | AMEC | 机械设备 | 商标无效 | 2006-02-20 | | 5163917 | AMEC | 机械设备 | 变更商标申请人/注册人名义/地址完成 | 2006-02-20 | | 21481950 | PRISMO A 7 | 机械设备 | 商标注册申请等待受理中 | 2016-10-08 | | 17971724 | NANOVA | 机械设备 | 商标注册申请受理通知书发文 | 2015-09-24 | | 17971744 | PRIMO NANOVA | 机械设备 | 商标注册申请受理通知书发文 | 2015-09-24 | | 14641234 | PRIMOIDEA | 机械设备 | 商标注册申请完成 | 2014-06-30 | | 13526040 | PRIMODSA | 机械设备 | 商标注册申请完成 | 2013-11-12 | | 10441271 | PRISMO | 机械设备 | 商标已注册 | 2012-01-19 | | 10441270 | PRISMO D-BLUE | 机械设备 | 商标已注册 | 2012-01-19 | | 8847993 | PRIMOTSV200E | 机械设备 | 商标已注册 | 2010-11-16 | | 8848005 | PRIMO AD-RIE | 机械设备 | 商标已注册 | 2010-11-16 | | 5917048 | PRIMOHPCVD | 机械设备 | 商标已注册 | 2007-02-13 | | 5917049 | PRIMOD RIE | 机械设备 | 商标已注册 | 2007-02-13 | | 5917030 | PRIMOHPCVD | 建筑修理 | 商标无效 | 2007-02-13 | | 5163916 | AMEC | 机械设备 | 商标无效 | 2006-02-20 | | 5163917 | AMEC | 机械设备 | 变更商标申请人/注册人名义/地址完成 | 2006-02-20 |
专利证书| CN103165374A | 发明公布 | 2013-06-19 | 一种等离子体处理装置及应用于等离子处理装置的边缘环 | 基本电气元件 | 倪图强;刘志强;杜若昕 | | CN103898613A | 发明公布 | 2014-07-02 | 等离子体刻蚀方法 | | 王兆祥;梁洁;杨平;李晶 | | CN103997843B | 发明授权 | 2017-02-15 | 一种改进气体分布的等离子体反应器 | 其他类目不包含的电技术 | 杨平;石刚;王兆祥;黄智林 | | CN101928941B | 发明授权 | 2014-09-03 | 一种用于刻蚀硅的反应离子刻蚀方法 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制 | 崔在雄;安东炫;李柯奋;吴万俊 | | CN103456591B | 发明授权 | 2016-04-06 | 自动频率调谐源和偏置射频电源的电感耦合等离子处理室 | 基本电气元件 | 罗伟义;许颂临;倪图强 | | CN103789747A | 发明公布 | 2014-05-14 | 一种气体喷淋头及制作该气体喷淋头的方法 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制 | 彭帆;徐朝阳;贺小明;左涛涛 | | CN102513313A | 发明公布 | 2012-06-27 | 具有碳化硅包覆层的喷淋头的污染物处理方法 | 清洁 | 贺小明;陈振军;倪图强 | | CN1909184A | 发明公布 | 2007-02-07 | 真空反应室的射频匹配耦合网络及其配置方法 | | 夏耀民 | | CN102899636A | 发明公布 | 2013-01-30 | 一种原位清洁MOCVD反应腔室的方法 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制 | 尹志尧;杜志游;孟双;汪洋;张颖;许颂临;朱班;泷口治久 | | CN106298583A | 发明公布 | 2017-01-04 | 处理腔、处理腔和真空锁组合以及基片处理系统 | 基本电气元件 | 陶珩;倪图强;王谦 | | CN103903944A | 发明公布 | 2014-07-02 | 在多频等离子体处理腔室中实现阻抗匹配的方法和装置 | 基本电气元件 | 梁洁;饭塚浩 | | CN103794460B | 发明授权 | 2016-12-21 | 用于半导体装置性能改善的涂层 | 基本电气元件 | 贺小明;张力;陈星建;倪图强;徐朝阳 | | CN102856146A | 发明公布 | 2013-01-02 | 一种气体回流预防装置 | 基本电气元件 | 周旭升;倪图强 | | CN201751976U | 实用新型 | 2011-02-23 | 一种等离子体处理装置 | | 许颂临;凯文·皮尔斯;杜志游;倪图强;雷本亮;陈金元;尹志尧 | | CN102686004B | 发明授权 | 2015-05-13 | 用于等离子体发生器的可控制谐波的射频系统 | 其他类目不包含的电技术 | 欧阳亮;钱学明;刘磊;陈金元;倪图强;杜志游;尹志尧 | | CN201383496Y | 实用新型 | 2010-01-13 | 静电卡盘 | 基本电气元件 | 罗伯特·赖安;倪图强 | | CN103187225B | 发明授权 | 2015-10-21 | 一种可监测刻蚀过程的等离子体处理装置 | 基本电气元件 | 倪图强;黄智林;徐朝阳;杨平 | | CN103369810A | 发明公布 | 2013-10-23 | 一种等离子反应器 | | 周旭升;梁洁 | | CN201681788U | 实用新型 | 2010-12-22 | 反应腔部件及应用该反应腔部件的等离子体处理装置 | 基本电气元件 | 倪图强;徐朝阳;周旭升 | | CN103871956A | 发明公布 | 2014-06-18 | 一种深孔硅刻蚀方法 | 基本电气元件 | 陶铮;松尾裕史;傅远;许颂临;尹志尧 |
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| 公司名称： |
中微半导体设备（上海）有限公司 |
公司类型： |
事业单位或社会团体 (其他机构) |
| 所 在 地： |
山东 |
公司规模： |
1000-3000人 |
| 注册资本： |
未填写 |
注册年份： |
2004 |
| 资料认证： |
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| 保 证 金： |
已缴纳 0.00 元 |
| 经营模式： |
其他机构 |
| 经营范围： |
研发、组装集成电路设备、泛半导体设备和其他微观加工设备及环保设备，包括配套设备和零配件，销售自产产品。提供技术咨询、技术服务。【不涉及国营贸易管理商品，涉及配额、许可证管理商品的，按照国家有关规定办理申请；依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】。 |
| 主营行业： |
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